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在半導體芯片的制造過程中,有一道工序看似不起眼,卻對芯片良率起著決定性作用——那就是去除光刻膠。而完成這項任務的設備,就是等離子去膠機。要理解等離子去膠機,需要先了解“等離子”這個概念。等離子是物質(zhì)的一種狀態(tài),類似于氣體,但其中的部分原子或分子被電離,形成了帶電的離子和自由電子。這種狀態(tài)下的物質(zhì)具有化學活性,能夠與某些材料發(fā)生反應。等離子去膠機正是利用這一原理工作的設備。它通過射頻電源將氧氣或其他氣體電離,產(chǎn)生含有高能氧離子和自由基的等離子體。當這些活性粒子與芯片表面的光刻膠...
5-20
一、評測前言在精密電子、半導體封裝、新材料研發(fā)等領域,臺式等離子清洗與去膠設備已成為工藝制程里常用的輔助設備。市面同類臺式機型配置方案各有差異,核心射頻供電系統(tǒng)直接決定設備實際工藝表現(xiàn)。本次評測基于累計三千余小時實際上機使用經(jīng)歷,以沛沅PLUTO-30臺式等離子清洗去膠機為測評對象,聚焦其搭載的13.56MHz射頻發(fā)生器與自動匹配網(wǎng)絡電源兩大核心組件,從實際使用層面測評設備綜合性能,同時結合多行業(yè)工藝使用反饋,客觀梳理該機型在不同應用場景中的實際表現(xiàn)。二、核心硬件技術架構解析...
5-12
在實驗室表面處理設備的選型評價中,需要從產(chǎn)品種類、技術參數(shù)、應用領域、用戶反饋等多個維度進行綜合考量。以下是對沛沅儀器PLUTO系列等離子清洗機的客觀梳理:一、產(chǎn)品類型與型號型號特點真空腔規(guī)格電極設計頻率功率目標場景PLUTO-T桌面小型機型,性能穩(wěn)定、操作便捷、性價比較高、使用成本低、易于維護不銹鋼腔體,4.3L平板氣浴電極,清洗效率較高40KHz(可選13.56MHz射頻)0-200W連續(xù)可調(diào),精度1W高校實驗室、科學研究所的基礎清洗與表面改性需求PLUTO-F桌面型方腔...
5-11
在半導體芯片的制造過程中,有一道看似簡單卻至關重要的工序——去除光刻膠。當光刻膠完成其圖形轉移使命后,通常需要被干凈地移除,否則會影響后續(xù)工藝。傳統(tǒng)的濕法去膠使用化學溶劑,但面對越來越精細的電路結構,這種方法逐漸力不從心。于是,一種利用等離子體技術的設備應運而生,它通過氣體放電產(chǎn)生的活性粒子來“吃掉”光刻膠,這就是等離子去膠機。等離子去膠機的核心原理基于低溫等離子體技術。設備內(nèi)部是一個真空反應腔室,當氧氣或含氟氣體被通入后,通過射頻電源施加電場,氣體分子被電離,形成由電子、離...
4-21
在材料科學和表面工程領域,實驗室電暈機正日益成為研究人員不可少的重要工具。作為一種精密的表面處理設備,它利用電暈放電技術對材料表面進行改性,在印刷、粘接、涂布等工藝前的預處理環(huán)節(jié)發(fā)揮著關鍵作用。一、什么是實驗室電暈機實驗室電暈機是一種利用高頻高壓電場產(chǎn)生電暈放電,從而對材料表面進行改性處理的實驗設備。其工作原理是將高頻高壓電流施加于放電電極上,在電極與接地輥之間產(chǎn)生強電場,使電極附近的空氣被電離,形成低溫等離子體。這些等離子體中的高能粒子轟擊材料表面,一方面破壞材料表面的分子...
4-3
等離子體是物質(zhì)除固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之外的第四態(tài),通過對氣體施加足夠的能量使其電離,便可產(chǎn)生這種神奇的“高能狀態(tài)”。而小型等離子清洗機,正是利用這一原理的桌面型精密儀器。它體積小巧,能夠置于實驗臺或手套箱中,通過產(chǎn)生等離子體對樣品表面進行非破壞性的處理,以達到超清洗、表面活化和改性的目的。???它是如何工作的?小型等離子清洗機的工作流程簡潔而高效。首先,真空泵將密閉腔體抽至接近真空狀態(tài);隨后,向腔體內(nèi)充入少量如氬氣、氧氣等特定工藝氣體;接著,射頻電源產(chǎn)生的高頻電場會將氣體電離,形...
3-12
在工業(yè)生產(chǎn)中,如何讓惰性的塑料粘得更牢?如何讓光滑的玻璃印上清晰的圖文?這些看似簡單的訴求,背后都指向一個共同的關鍵設備——等離子處理機。它如同一位精通“表面魔法”的大師,能在微觀尺度上賦予材料全新的界面性能,被譽為開啟附著力之門的“金鑰匙”。等離子處理機,又稱等離子表面處理機或等離子清洗機,是一種利用等離子體對材料表面進行改性的工業(yè)設備。其核心在于“等離子體”——這種由離子、電子、自由基組成的高能物質(zhì),被稱為物質(zhì)的第四態(tài)。設備通常由等離子發(fā)生器、氣體輸送系統(tǒng)及等離子噴頭組成...
2-5
等離子去膠機是半導體、微電子、光電子、微納加工等領域的核心精密等離子體處理設備,核心以氧氣為主要工作氣體,在真空環(huán)境中產(chǎn)生高活性的氧等離子體,實現(xiàn)對晶圓、基片、器件表面光刻膠的干法無損傷剝離,是光刻工藝后不可少的配套處理設備。該設備區(qū)別于傳統(tǒng)濕法去膠工藝,全程無化學試劑參與,無濕法腐蝕、無試劑殘留,適配微納結構器件的高精度加工要求,同時兼具綠色環(huán)保、去膠的特點,是微納制造工藝中實現(xiàn)光刻膠準確去除的關鍵設備。等離子去膠機的核心工作邏輯圍繞“真空環(huán)境構建-氧等離子體生成-光刻膠氧...
1-13
在精密制造、生物醫(yī)療、電子封裝等領域,表面處理質(zhì)量直接影響產(chǎn)品性能。傳統(tǒng)清洗方式常因化學殘留、表面損傷等問題難以滿足高精度需求,而小型等離子清洗機憑借其獨特的物理化學作用機制,正成為行業(yè)升級的優(yōu)選方案。本文將從技術優(yōu)勢、應用場景、操作規(guī)范三個維度,解析這一設備的核心價值與使用要點。一、技術優(yōu)勢:突破傳統(tǒng)清洗的五大壁壘1.環(huán)保無污染的干式清洗等離子清洗通過高頻電場將氣體電離為活性粒子(如離子、自由基),這些粒子與污染物發(fā)生氧化還原反應,將有機物分解為二氧化碳和水蒸氣,無機物則轉...
12-26
臺式真空等離子清洗機是一款小型化、高集成度的等離子體表面處理設備,主要應用于實驗室研發(fā)、小批量生產(chǎn)場景,核心用于對精密零部件、電子元件、光學器件等小型工件進行表面清洗、活化、刻蝕及改性處理。其以“真空環(huán)境+低溫等離子體”為核心技術,通過等離子體的物理與化學作用,去除工件表面油污、有機物雜質(zhì)、氧化層,同時提升表面附著力與親水性,為后續(xù)粘接、焊接、鍍膜、封裝等工藝提供優(yōu)質(zhì)表面基礎。相較于大型落地式設備,臺式機型具備體積小巧、操作便捷、能耗低、占地少等優(yōu)勢。臺式真空等離子清洗機的工...
12-19
在實驗室里,很多材料(比如玻璃、金屬、塑料、芯片)的表面會藏著肉眼看不見的油污、灰塵,或者有一層惰性物質(zhì),這些“小麻煩”會影響實驗結果——比如粘不牢、反應不充分、檢測不準。而實驗室等離子清洗機,就是專門解決這個問題的“表面清潔小能手”,不用復雜的化學藥劑,靠等離子體就能把材料表面處理干凈、變“活潑”。一、它是干嘛的?核心3個用途等離子清洗機的核心作用是“清潔+活化”,具體能幫實驗室做這3件事:表面去污:去除材料表面的油污、灰塵、殘留溶劑等雜質(zhì)。比如實驗用的玻璃載玻片、金屬樣品...