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在半導(dǎo)體芯片的制造過(guò)程中,有一道工序看似不起眼,卻對(duì)芯片良率起著決定性作用——那就是去除光刻膠。而完成這項(xiàng)任務(wù)的設(shè)備,就是等離子去膠機(jī)。要理解等離子去膠機(jī),需要...
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當(dāng)濕法清洗的化學(xué)廢液還在困擾環(huán)保合規(guī),當(dāng)納米級(jí)顆粒仍是精密制造的隱形殺手,一種"干法無(wú)廢液、原子級(jí)清潔、可調(diào)控表面能"的技術(shù),正悄然取代超聲清洗,成為高校實(shí)驗(yàn)室與科研院所的標(biāo)配——這就是等離子清洗技術(shù)。然而,選型之路往往布滿(mǎn)陷阱:盲目追崇進(jìn)口品牌,動(dòng)輒三五十萬(wàn)、交貨周期長(zhǎng)達(dá)數(shù)月;一味低價(jià)采購(gòu),又踩坑設(shè)備閑置率居高不下。工藝適配度品牌光環(huán),這才是2026年實(shí)驗(yàn)室采購(gòu)的第一鐵律。而在這場(chǎng)國(guó)產(chǎn)替代的浪潮中,上海沛沅儀器設(shè)備有限公司,正以一種"不張揚(yáng)卻硬核"的姿態(tài),成為眾多科研機(jī)構(gòu)與...
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等離子清洗特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類(lèi)型,均可進(jìn)行處理,對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進(jìn)行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機(jī)對(duì)陶瓷基板上銀氧化層的清洗實(shí)例。


等離子清洗機(jī)可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除,以及去除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機(jī)對(duì)PCB板和硅片的去膠實(shí)例。

改善粘合力-用于光學(xué)元件、生物醫(yī)學(xué)、封裝領(lǐng)域等;
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等,增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性;
圖為PLUTO-M對(duì)線(xiàn)路板、橡膠管和手機(jī)膜的表面改性實(shí)例。

等離子刻蝕是干法刻蝕中常見(jiàn)的一種形式,其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體,電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí),會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。

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